本報訊 近日，三星表示，已在其最新3D NAND的光刻工藝中減少了厚光刻膠（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“PR”）的使用量，從而大幅節省了成本。

　　三星表示，為了提高NAND生產(chǎn)效率并降低成本，通過(guò)采用兩項關(guān)鍵創(chuàng )新技術(shù)減少了光刻膠的使用量。首先，三星優(yōu)化了生產(chǎn)過(guò)程中的每分鐘轉數和涂布機轉速，在保持最佳蝕刻條件的同時(shí)，減少了PR的使用，在保持涂層質(zhì)量的同時(shí)大幅節省了成本。其次，PR應用后的蝕刻工藝已經(jīng)得到改進(jìn)，盡管材料使用量減少，但仍能獲得同等或更優(yōu)的結果。據了解，三星已將用于3D NAND生產(chǎn)的PR使用量減少了一半。

　　但三星此舉也意味著(zhù)東進(jìn)半導體將面臨訂單減少的問(wèn)題。據悉，東進(jìn)半導體光刻膠業(yè)務(wù)每年的營(yíng)收約為2500億韓元收入，其中60%來(lái)自于三星。

　　光刻膠被譽(yù)為“微納世界的畫(huà)家”，在半導體制造中，光刻膠要先被涂覆在硅片或其他襯底上，然后通過(guò)光照和后續蝕刻等處理，實(shí)現微細圖案的制作。

　　當前，全球光刻膠市場(chǎng)幾乎被來(lái)自日本的JSR、東京應化、信越化學(xué)、住友化學(xué)等企業(yè)所瓜分，也讓日本在全球半導體制造鏈中占據著(zhù)舉足輕重的地位，這也讓日本獲得了主動(dòng)權。日本政府曾多次限制光刻膠等半導體材料的出口，其中，影響最深遠的就是2019年7月，日本政府宣布對出口韓國的半導體工業(yè)材料加強審查和管控，并將韓國排除在貿易“白色清單”以外。在2019年，韓國光刻膠對日本的依賴(lài)度為80%。但韓國政府在被限制時(shí)并沒(méi)有坐以待斃，立刻牽頭一口氣投入了6萬(wàn)億韓元的預算，鼓勵韓國的材料企業(yè)加快研發(fā)進(jìn)度。2022年12月，這筆投入終于獲得了回報，韓國三星電子公司宣布，將東進(jìn)半導體研發(fā)的EUV光刻膠成功應用于其芯片工藝生產(chǎn)線(xiàn)。東進(jìn)半導體成為韓國第一家將EUV光刻膠本土化至量產(chǎn)水平的公司。（文 編）